Čína vyrábí vlastní litografické stroje na výrobu čipů

V roce 2026 se očekává výroba přibližně pěti zařízení, přičemž v roce 2027 se produkce zvýší na přibližně 20 kusů. Prvními zákazníky by měly být společnosti Semiconductor Manufacturing International Corporation, neboli SMIC, Hua Hong Semiconductor a výrobce pamětí ChangXin Memory Technologies.

Stroje využívají technologii imerzní litografie v hluboké ultrafialové oblasti (DUV). Tato technologie umožňuje otiskování vzorů na křemíkové destičky a vytváření elektronických obvodů. Segmentu imerzních DUV strojů v současnosti dominuje nizozemská společnost ASML, zatímco japonský Nikon zůstává menším konkurentem.

Očekává se, že čínská zařízení zůstanou v porovnání se stroji ASML horší, pokud jde o přesnost, spolehlivost a efektivitu. Zahájení jejich výroby by však mohlo snížit závislost čínských továren na dodávkách zařízení z Nizozemska a Japonska.

To je obzvláště důležité vzhledem k vývozním omezením zavedeným Spojenými státy a jejich spojenci. Čína nemůže legálně nakupovat stroje od společnosti ASML, které využívají pokročilejší extrémní ultrafialovou litografii, známou jako EUV. Washington se také snaží omezit prodej a servis pokročilých zařízení DUV v Číně.

Stroje DUV lze použít k výrobě pokročilých procesorů aplikací více vzorů. Tento proces však vyžaduje více kroků, zvyšuje náklady a může snížit procento funkčních čipů.

Zprávy o zahájení čínské výroby spustily pokles akcií evropských výrobců polovodičových zařízení. Akcie společnosti ASML v pondělí klesly o více než 7 procent. Pokles akcií zaznamenaly i společnosti BE Semiconductor Industries, Soitec a Infineon Technologies. Společnost ASML se k čínským strojům odmítla vyjádřit.